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  • 抗粘 劑氣相涂布烘箱,抗粘劑 氣相沉積系統
    抗粘 劑氣相涂布烘箱,抗粘劑 氣相沉積系統主要用于納米壓印光刻(NIL)應用,防粘涂層的制備,可用于光刻工藝中硅烷涂膠;以及功率半導體,LED,MEMS,半導體分立器件等硅烷沉積涂膠工藝。
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    2025-09-17
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  • 程控式氮氣潔凈烤箱,四箱充氮烘箱
    程控式氮氣潔凈烤箱,四箱充氮烘箱工作室內溫度由溫控儀自動控制,可設定定值運行、程序(曲線)運行自由切換,并有自動恒溫及時間控制,并附設有超溫自動停止加熱及報警電路,控制可靠,使用安全。
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  • 掩膜版烘烤機,光罩版恒溫熱板
    掩膜版烘烤機,光罩版恒溫熱板適用于半導體光刻工藝的前烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結和考核等工藝。
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  • 均勻性0.5度的恒溫加熱臺,可編程恒溫熱板-烘箱設備
    均勻性0.5度的恒溫加熱臺,可編程恒溫熱板用于固化光刻膠,固化環氧塑脂,可用于顯微鏡下使用以及其它需要高精度控溫的場合等。適用于半導體光刻工藝的前烘和堅膜、電路模塊的涂敷燒結和考核等工藝。
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  • 高溫百級無氧烘箱,500度厭氧潔凈烤箱
    高溫百級無氧烘箱,500度厭氧潔凈烤箱用于PI、BCB 膠高溫固化烘烤、銀膠固化、光刻膠固化、電子陶瓷材料、硅片退火、玻璃退火、無塵烘干的特殊工藝要求。
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