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  • HMDS烘箱,半導(dǎo)體工藝HMDS設(shè)備
    HMDS烘箱,半導(dǎo)體工藝HMDS設(shè)備有可自動(dòng)吸取添加HMDS功能,智能型的程式設(shè)定,一鍵完成作業(yè)。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合,起著偶聯(lián)劑的作用。
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  • RTP快速退火爐,半導(dǎo)體工藝快速熱處理設(shè)備
    RTP快速退火爐,快速熱處理設(shè)備(RTP)簡介 快速熱處理設(shè)備(RTP)可用于砷化鎵、硅以及其他半導(dǎo)體材料,離子注入后的退火、硅化物的形成、歐姆接觸制備以及快速氧化、快速氮化等方面。RTP快速退火爐,快速熱處理設(shè)備(RTP)具有快速升降溫、慢速升降溫、和長工作時(shí)間穩(wěn)定等特點(diǎn)。也可用于各種半導(dǎo)體材料的CVD工藝的熱處理。
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  • 等離子去膠機(jī),半導(dǎo)體工藝表面處理機(jī)
    等離子去膠機(jī),等離子表面處理機(jī)采用國內(nèi)*射頻源,其電磁兼容性能優(yōu)良、高頻輻射小,符合國家環(huán)保規(guī)定。本機(jī)外形美觀大方,操作簡便。等離子去膠機(jī),半導(dǎo)體工藝表面處理機(jī)適于對(duì)基片進(jìn)行去膠、清洗等工藝。該設(shè)備具有去膠工藝簡單、可靠、*、速率快、成品率高、處 理后無酸氣廢水等殘留等特點(diǎn)。
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  • 等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀 實(shí)驗(yàn)室等離子清洗機(jī)
    等離子清洗機(jī),等離子表面處理儀是一種表面處理設(shè)備, 用氣體作為處理介質(zhì),它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體,等離子體對(duì)固體樣品表面進(jìn)行相互作用,引起分子結(jié)構(gòu)改變,從而對(duì)樣品表面的有機(jī)污染物進(jìn)行超清洗和使樣品表面改性,以獲得希望的表面特性。
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